微弧氧化是一種采用交、直流電在陽(yáng)極區(qū)產(chǎn)生等離子微弧放電的方法，利用瞬間的高溫?zé)Y(jié)作用，直接在鎂合金表面原位形成高硬度和致密性的陶瓷膜。這種微弧氧化生成的陶瓷膜可以通過(guò)500小時(shí)的中性鹽霧測(cè)試，并且附著力達(dá)到0級(jí)，顯微硬度在400HV左右，膜層厚度在5~70μm可調(diào)整。雖然微弧氧化可以大幅提高陽(yáng)極氧化膜的硬度和致密性，但仍需進(jìn)一步涂裝保護(hù)以達(dá)到最佳效果。

        微弧氧化技術(shù)應(yīng)用于鎂合金表面處理工藝中具有以下特點(diǎn)

        1、微弧氧化處理能力強(qiáng)，可以處理各種形狀復(fù)雜的鎂合金工件，能在鎂合金試件的內(nèi)外表面生成均勻陶瓷層；對(duì)材料的適應(yīng)性廣，除鎂合金外，還能在鋯、鉈、鈮等金屬及其合金表面生長(zhǎng)陶瓷膜層。

        2、微弧氧化電解液對(duì)環(huán)境基本無(wú)污染，在對(duì)鎂合金過(guò)程中無(wú)有害污水和污染廢氣產(chǎn)生，綠色環(huán)?？沙掷m(xù)發(fā)展。

        3微弧氧化工藝的在整套設(shè)備加工過(guò)程中，工藝簡(jiǎn)單，工序少，不需要經(jīng)過(guò)經(jīng)過(guò)酸洗、堿洗等前處理工序，除油后可直接進(jìn)行微弧氧化處理，易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)。

        4微弧氧化處理效率高，一般陽(yáng)極氧化獲得30μm左右的陶瓷層需要1~2h，而微弧氧化只需10~60min即可。

        5微弧氧化過(guò)后鎂合金陶瓷膜層與基體以冶金方式進(jìn)行結(jié)合后原位生長(zhǎng)，兩者結(jié)合緊密，膜層與基體有較好的結(jié)合力，不易剝落。

        6微弧氧化過(guò)后鎂合金陶瓷膜層擁有比較好的綜合性能，如具有良好的耐蝕性、耐磨性、高硬度等，此外還能制備出具有隔熱、催化、抑菌、生物親和性等其它特殊功能的膜層。

        但除了以上特點(diǎn)以外，微弧氧化自身受電解工藝影響，無(wú)法避免的形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過(guò)程電解質(zhì)溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時(shí)間長(zhǎng)，對(duì)于鎂合金一些痛點(diǎn)問(wèn)題。

        因此，從技術(shù)的角度加強(qiáng)鎂合金表面處理技術(shù)的發(fā)展、深入研究保護(hù)膜形成的機(jī)理，可進(jìn)一步改善表面防護(hù)膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點(diǎn)，在行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域上對(duì)推進(jìn)鎂合金材料在航空航天、交通領(lǐng)域與電子工業(yè)等領(lǐng)域的應(yīng)用具有十分重要的現(xiàn)實(shí)意義和經(jīng)濟(jì)效益。

        復(fù)合氧化技術(shù)，是一種針對(duì)鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問(wèn)題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了這些問(wèn)題，復(fù)合氧化技術(shù)是繼化學(xué)鍍、轉(zhuǎn)化膜涂層、陽(yáng)極氧化、有機(jī)物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術(shù)。

        鎂合金復(fù)合氧化技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、材料適應(yīng)性寬等特點(diǎn)，所得膜層均勻、質(zhì)硬，可以起到長(zhǎng)期的保護(hù)作用,鹽霧時(shí)間可達(dá)200小時(shí)，涂層與基體的結(jié)合緊密,這也是鎂合金表面處理技術(shù)發(fā)展的一個(gè)重要突破。